半導体ウエハー内部の転位とひずみの分布を可視化 （EE Times Japan）

Mipox製SiC結晶転位高感度可視化装置に開発技術を実装 名古屋大学未来材料・システム研究所の原田俊太准教授は2022年6月、Mipoxと共同で半導体ウエハー内部の結晶欠陥（転位）とひずみの分布を可視化することに成功したと発表した。Mipoxはこれらの技術を自社のSiC結晶転位高感度可視化装置「XS-1 Siri…